La crescita di deposizione del DLC MIDA avviene mediante un processo di rivestimento PACVD (Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition) nel quale è possibile ottenere depositi di carbonio amorfo con caratteristiche simili al diamante. La deposizione avviene all’interno di una camera sottovuoto dove vengono immessi gas, vengono ionizzati e portati allo stato di plasma. In questo stato i gas vanno a interagire con la superficie dei manufatti posizionati all’interno della camera, depositando uno strato di carbonio amorfo. Il processo di deposizione PACVD inoltre consente di limitare la temperatura del substrato durante la deposizione evitando deformazioni e cambiamenti di struttura delle leghe; si possono quindi trattare anche materiali con basso punto di fusione come l’alluminio.
Il rivestimento ben aderente e omogeneo è caratterizzato da ottima resistenza chimica ed è inattaccabile da soluzioni acide o alcaline e da agenti organici.
| Proprietà del rivestimento | DLC MIDA |
|---|---|
| Struttura rivestimento | Monostrato |
| Struttura reticolo | Amorfo |
| Microdurezza | 2000 – 4000 HV |
| Coefficiente di attrito | < 0,1 |
| Temperatura massima di servizio (°C) | 400 |
| Colore del rivestimento | Nero (Antracite) |
| Proprietà del rivestimento | Flash Cr + DLC MIDA |
| Microdurezza | > 2000 HV |
| Coefficiente di attrito | < 0,1 |
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